半導体用語集
選択拡散
英語表記：selective diffusion
半導体基板の特定の領域に選択的に不純物拡散を行う方法。シリコン酸化膜などをフォトエッチングでパターニングし、開口部より不純物を拡散させる。一般的に、酸化膜中の不純物拡散はシリコン中にくらべて十分に遅いので、酸化膜をマスクとして用いることができる。拡散は等方的に進むため、拡散領域はマスクの開口部よりも広くなる。したがって、選択拡散の場合においては、拡散を二次元、あるいは三次元の問題として考える必要があり、 マスク端の近くでの不純物分布が重要となる。
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