半導体用語集
ポリシリコン(多結晶シリコン)
英語表記:
多結晶シリコンは金属反応炉内に設置された8mmφ程度の細いシリコン芯(シード)を通電加熱(約1000℃以上)しておき、これに高純度の三塩化シラン(SiHCl3)と水素を混合したガスを流すと、シリコン芯の表面にシリコンが析出し、太い棒状に生成された高品位多結晶シリコンが得られ、シリコン単結晶製造の原料となる。多結晶シリコンは、MOSトランジスタのゲート電極の材料として広く用いられている。
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