半導体用語集
マスク欠陥修正
英語表記：mask defect repair
検査によって検出されたマスクバターンの欠陥を修復することをマスク欠陥修正という。
所望の場所以外に遮光膜が残っている欠陥(黒欠陥とも呼ぶ)はレーサによる遮光膜の昇華、もしくは集束イオンビーム照射による遮光膜のスパッタ除去によって修正する。遮光パターンが一部欠落している欠陥(白欠陥とも呼ぶ)は、修正部に有機系ガスを吹きつけながらYAGレーサもしくはアルゴンレーザ、または集束イオンビームを照射することでカーボンなどの遮光膜を堆積させる (CVD法)ことによって修正を行う。欠陥修正を行った箇所は, たとえは空間像測定装置で光学特性を調べることによって修正の良否を判定する。 マスク欠陥修正工程は, 常にマスク欠陥検査工程と対になっており、検査・修正を繰り返して無欠陥マスクの出荷がされる。
関連製品
「マスク欠陥修正」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「マスク欠陥修正」に関連する用語が存在しません。
「マスク欠陥修正」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
