半導体用語集
反応性 スパッタリング装置
英語表記：reactive sputtering system
一種の化学反応を伴わせて化合物薄膜（酸化膜、窒化膜等）を付着させることができるスパッタリング装置。アルゴンガスに加え、活性ガスを導入したスパッタ室内で、素材、例えば金属をスパッタし、金属化合物薄膜等を形成させることができる。
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