半導体用語集
反応性イオンビーム エッチング装置 RIBE装置
英語表記：reactive ion beam etching system RIBE system
反応性ガスによるプラズマイオン源で発生させ、反応性ガスイオン及び中性活性種をイオン源と独立した試料台上のウェーハに照射しエッチングを進行させる装置。
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