半導体用語集
多重ビーム露光
英語表記：multi-beam exposure
複数個のビームを独立に制御しながら並列一括処理して、ランダムなパターンも走査速度を低下させることなく露光できるようにした方式が多重(マルチ)ビーム露光である。この方式は、シングルビームの電子ビーム露光方式にくらべてスループット(ウェハ処理能力)を大幅に増大させることができる。複数のビームの発生方式としては、 (1)単一カソード (電子源) 、マルチアパーチャ、(2)マルチカソード、マルチレンズとがある。(1)は単一電子源から放射されたビームを複数のアパーチャで分けてマルチビーム化する方法である。この方式を採用した描画装置には、 Lischke らによるcomb probe printerや安田らによるBlanking Aparture Array (BAA) exposure systemがある。(2)は電子源自身を複数個配置し、これらから発生した複数のビームを単一のコラム、または複数のコラムで制御する方法である。この方式を採用した描画装置には、Jonesらによるlithography wand systemやChangらによる arrayed microcolumnがある。
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