半導体用語集
大電流 イオン注入装置
英語表記：high current ion implanter
ビーム電流量の最大値が5ｍＡ以上のイオン注入装置。近年の微細化の急伸から低エネルギー領域（10keV以下）にも対応した装置が主流となりつつある。
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