半導体用語集
対向ターゲット型スパッタリング装置 FTS装置
英語表記：facing target sputtering system
2つの平板陰極に対抗させ中心軸に沿った磁界と組み合わせたマグネトロン型スパッタリング装置。電子は対向陰極空間に閉じ込められた高密度プラズマを発生する。磁性体の高速スパッタに有効とされている。
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