半導体用語集
常圧CVD装置
英語表記：atmospheric pressure CVD system
薄膜形成を行う際、その反応室の雰囲気が大気圧となっているCVD装置をいう。励起エネルギーとして、プラズマやヒータなど加熱源からの熱を用いるものがある。圧力が高いため、反応した気相中、またはウェハ表面の薄膜材料が比較的高速にウェハ上に堆積される特徴があり生産性に優れている。
またウェハ上に形成された薄膜に段差が生じている場合にも、比較的高圧のために深い段差も埋め込み、かつ底面部にも均等に成膜できる力バレッジがいい特徴がある。
こうした特徴を活かし、主に層間絶縁膜用途の酸化膜形成など比較的、膜厚が均ーであることを必要としない工程に用いられている。
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