半導体用語集
異常拡散
英語表記：anomalous diffusion
異常拡散といった場合には様々な現象を意味するが、ーっには不純物が高濃度で拡散する場合、拡散後の不純物分布が実効拡散係数一定とした時にえられる補誤差関数とは異なる形状となることがあげられる。これは、不純物の実効拡散係数が濃度依存性を持っためである(高濃度不純物拡散)。また、シリコンの熱酸化によって、ホウ素 (B)、リン (P)では拡散が増速され(酸化増速拡散)、アンチモン (Sb)では拡散が遅くなる (酸化減速拡散) 現象も異常拡散の一つである。さらに、オートドーピングによる不純物の混入や外方拡散による不純物分布の変化も、意図せずに起こるという点から異常拡散に含めることができる。
関連製品
「異常拡散」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「異常拡散」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
