半導体用語集
研磨布密度
英語表記：apparent density of polishing pad
研磨布を気密性プラスチックと見なし、その密度をD＝W/V。D：見かけ密度（kg／m3）、W＝研磨布重量（kg）、V＝研磨布堆積（m3）で定義すること。研磨布重量は温度23℃、湿度50％の環境下において精密天秤を用いて±0.1％精度で測定し、研磨布堆積はダイヤルゲージ、キャリパーゲージまたはスチール法を用いて、研磨布を圧縮しないように±0.1％精度で寸法測定し算出する。例えばIC1000（ロデール・ニッタ（株）製品の研磨布）では上記測定で0.73kg／m3である。一般に、米国ではASTM（D1622-93）に準拠し、日本ではJIS L 1096に基づいて測定される。IC1000等に代表されるポリウレタン独立気泡パッドでは、パッド表面に表れる発泡サイズのバラツキがスラリー保持性、ウェーハ吸着性、エッジ研磨効果に影響するといわれている。このため、ロットに係わらず均質性が要求されるが、原材料のポリマー分子量や成型時の架橋反応の温度制御にバラツキがあり、製品管理項目として研磨布密度が用いられる。
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