半導体用語集
研磨抵抗
英語表記：polishing resistance
加工物と工具を擦り合わせる研磨運動を行う場合に力を必要とし、通常は動力源にモータが使用される。両者を擦り会わせる力に抵抗する反力は、研磨装置の加工物支持系で研磨抵抗として検出される。この研磨抵抗は、レンズ研磨機の場合には、上皿を支持しつつ往復運動するポールに、修正輪形研磨機の場合には、修正輪の支持部に張り付けたストレインゲージなどによって測定可能となる。しかし、研磨抵抗は研磨面の各点における瞬時の方向性ををもつ相対速度に逆らう方向に現れ、それらが総合された値である。各点における研磨抵抗は、機械的作用の大きさに左右され、研磨布と擦りあって加工が行われる部分で大きく、ハイドロプレーン現象や幾何学的形状から研磨布と非接触状態になる部分で小さい値をとる可能性がある。CMPでは、終点検出に研磨抵抗の測定を利用する試みが進められ、一部で実用化されている。この場合、研磨装置の動力あるいは加工物回転系の動力の変化を研磨抵抗変化と見なした測定が行われる。加工物が金属材料からガラス材料に変わると研磨抵抗値が変化する。なお、ポリシャ面の上下の振れや加工物回転系の精度が研磨抵抗変化に周期的に重畳するので、研磨装置の高精度化が重要になる。
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