半導体用語集
自己平坦膜
英語表記：self planarization film
薄膜を形成する過程で、エッチバックやCMPなどの特別な平坦化処理を行わなくとも、表面が平坦になる性質を持つ薄膜のこと。溶液を回転塗布して熱処理を施し、硬化させて薄膜とする方法や、一部のCVD法によって形成できる。塗布法では、塗布ガラス膜（SOG）やポリイミド樹脂等の溶液を基板上に回転塗布し、これを熱処理すると膜が流動して窪みに流れ込み、表面が平坦化する性質を持つものがある。CVD法ではTEOSなどの有機シリコン化合物とオゾンとを反応させたり、シランを過酸化水素と反応させたりしてSiO2膜を形成すると、やはり流動現象を起こして表面が平坦な膜が形成される例が知られている。素子間分離溝や配線間などの狭い隙間に埋め込むために用いられる場合が多い。
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