半導体用語集
超音波、メガソニック
英語表記：ultrtasomc, megasomc
周波数10～100kHzの超音波を洗浄瀋液中を透過させ、その中に置かれたウェハ表面上に付着しているパーテイクルなどの不純物に音波エネルギーを印加し、これらを除去する。高い強度の音波を印加した場合、ウェハ近傍で圧力の変動が生じ、キャピテーション (cavitation) 現象に山来する気泡を生じる。この気泡が割れる時ウェハ表面上の不純物を除去するにたりるエネルギーが放出され、不純物は除去されるが、同時にウェハ表面にダメージを与える可能性がある。周波数が
0.7 ～1.0MHzのメガソニックの場合には、周波数が超音波のそれよりも十分高いために、キャビテーションによる気泡が生じるほどの十分な時間がなく生成されない。これによりダメージのない、音波という物理的エネルギーにより洗浄溶液の能力を高めることが可能となる。このメガソニックは通常はウェハ表面に付着しているバーティクルを除去するために用いられるSCI処理に付与され、これの持つ洗浄能力をさらに高めるために用いられることが多い。また近年ではオゾン水やフッ酸溶液など他の溶液や純水にも適用することが試みられている。特に純水やオゾン水にメガソニックを印加すると、水素や水酸基のラジカルが増加し、また過酸化水素水や硝酸イオン (N03-)が生成されていることが電子スピン共鳴法により確かめられている。硝酸イオンの窒素の起源としては純水やオゾン水中に溶存している窒素であると考えられ、メガソニックには機械的な力を印加するのみではなく、このように化学的に活性な種を生成する効果もあり、このようなことも不純物の除去に寄与していると考えられる。
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