半導体用語集
高周波 プラズマCVD装置
英語表記：RF plasma enhanced CVD system
減圧下で反応性ガスの高周波グロー放電分解によって薄膜を形成するCVD装置。反応室の外側または内側に設置された対向電極間に高周波電圧を印加してプラズマを発生させる容量結合型プラズマCVD装着と、石英反応管の外側に巻いたコイルに高周波電圧を印加してプラズマを発生させる誘導結合型プラズマCVD装置がある。
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