半導体用語集
Double Patterning（1）
英語表記：Double Patterning
マスクで、1回目と2回目の露光を入れ子のように行うと、実効的な解像度が1／2になる。これをDouble Patterningと呼んでおり、生産に用いられてる。1回目、2回目4ともに隣接パターンが離れているので、近接効果が少なく、実効的なｋ1値が1／2近くに下がることになる。
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