半導体用語集
International SEMATECH
英語表記：International SEMATECH
前身のSEMATECH(Semiconductor Manufacturing Technology)は、日米半導体摩擦が激化する中で、米国の半導体産業の国際競争力を回復するため、日本の1970年代の超LSI技術研究組合をモデルに1987年に国防総省（DOD）と米国半導体業界が共同出資して設立した共同研究コンソーシアム。その後、2000年にSEMATECHは正式に名称をInternational SEMATECHに改め、全世界的な活動を行っている。2011年に、本拠をテキサス州オースチンからニューヨーク州アルバニーに移し、ニューヨーク州からの支援を受けている。リソグラフィ、光学、材料等に関する先進的技術開発や生産技術改善に取り組んでいる。特に、450mmの試作ラインを建設して積極的に活動している。以下はSEMATECHの主な次世代の技術戦略である。（1）半導体製造メーカー（IBMの影響が大きい）と半導体製造装置・材料メーカとの共同研究を行い、次世代技術開発のための役割を果たす。（2）リソグラフィー、新材料やデバイス構造、微細化のための計測技術、3D内部配線等の研究の推進。（3）より効果的な製造のための、450mmウェハのような先端Fabの実現を図る。
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