半導体用語集
アイススクラブ洗浄
英語表記：ice scrubber cleaning
半導体デバイス製造プロセスにおける、物理洗浄方法の一つ。物理洗浄には、ブラシスクラブ、高圧ジェット水、超音波洗浄等があるが、アイススクラブ洗浄は直径0.3から30µmの水の粒子を洗浄対象物に噴出して、衝突時の物理力と氷の冷却により洗浄を行う。氷粒子衝突時の圧力により、強固な付着物除去とサブミクロンのパーティクル除去が可能である。氷の粒子が衝突時に細かく砕けるため、微細パターン内の付着物も除去できる。また、油脂等の汚染物は、氷により冷却され硬化収縮して剥離され易くなり、この油脂を氷粒子が砕き除去する。水と洗浄対象物の摩擦により帯電するので、除去後の再付着を防止のためイオナイザ等で除電する必要がある。薬品を使わない洗浄方法なので、薬品及び廃液のコストを削減できる。
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