半導体用語集
アニール(熱処理)
英語表記：Annealing
アニールとは本来「焼き鈍し」の意味であるが、半導体技術では窒素やAr等の不活性ガス中でウェハを熱処理することを指す。用途の中では、特に、イオン注入後の結晶性の回復が重要であるが、そこでは、熱処理時間を超短時間にしてサーマルバジェットを低減し、不純物の再分布を抑制することが要求される。（Thermal Budget:時間×温度）
＊アニール装置の種類：
①抵抗加熱炉アニール（分単位） ②タングステンハロゲンランプアニール（秒単位）
③フラッシュランプアニール（ミリ秒単位） ④レーザアニール（ナノ秒単位）
＊具体的な用途：
①イオン注入時に発生した格子欠陥の消滅と注入不純物の電気的活性化
②プラズマ・エッチング/アッシング等のダメージ除去 ③MOS特性の向上（Si/SiO2界面特性の向上）
④シリサイド化（Siと金属の熱反応による合金化：CoSi2、WSi2、NiSi） ⑤ゲッタリング（欠陥制御、電気特性の向上）
⑥絶縁膜の高密度化 ⑦BPSGリフロー（表面の平坦化） ⑧多結晶シリコンの大粒径化
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