半導体用語集
イオンビーム加工
英語表記：ion beam fabrication
イオンビームを用いて微細加工や薄膜形成を行う技術全般をイオンビーム加工と呼ぶ。イオン注入効果、イオンビームスパッタリング、欠陥形成、原子混合反応などの現象を利用して加工を行うが、装置的に見ると、シャワー状イオンビームを用い、マスクパターンを転写する技術と、集束イオンビームを用いて、マスクなしで局所的に加工する技術に分けられ、後者は、マスクレスプロセスとも呼ばれている。薄膜形成では、低エネルギーイオンビームを直接堆積するイオンビーム蒸着、クラスタイオンビームを用いる方法、ガス雰囲気中あるいは真空蒸着と併用してイオンビームを照射する方法などがあり、イオンビーム支援デポジションとも呼ばれる。エッチングでは、物理スパッタリングによる方法や、反応性の分子イオンを照射する場合、また、化学的に反応性の高いハロゲンなどのガス雰囲気中でイオンビーム照射を行うイオンビーム支援エッチングなどがある。
関連製品
「イオンビーム加工」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「イオンビーム加工」に関連する用語が存在しません。
「イオンビーム加工」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
