半導体用語集
ウェーハ間均一性
英語表記：wafer to wafer uniformity
連続でポリッシュした各ウェーハのポリッシュ量の均一性をいう。各ウェーハ面内の平均ポリッシュ量を算出し、ｎ枚のウェーハの最大値、最小値、偏差をもちいて、D10012に示す(1)、(2)、(3)式により求める。
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