半導体用語集
ウルトラクリーン
英語表記：ultra clean
半導体の製造に当たって、製品不良の主要な原因の一つとして、パーティクルの存在がある。クリーンルーム内の清浄度を示す単位は「クラス」である。「クラス100」とは、1立方フィート（0.028 m3）中に、0.5µm以上の異物が100個以下であることを示す。現在、最先端のクリーンルームはクラス1からクラス0.1の水準である。 DRAM用量産工場を建設してきた日系半導体メーカー、韓国系半導体メーカーは、ボール型のクリーンルームを採用してきた。これに対して、90年代半ば以降、局所クリーンルームというコンセプトが定着してきている。局所クリーンルームは、ウェハなど重要な部材が動く空間だけを厳格なクリーン度に維持するというコンセプトである。これにより、工場全体のクリーン度は、ボール型のクリーンルームとくらべて、緩いレベルに設定することが可能となる。多品種少量生産を要求されるロジックICメーカー、またファンドリメーカーなどで広く採用され始めている。
東北大学の大見忠弘教授が提唱する「スーパークリーンルーム設計論、ウルトラクリーンガス供給技術、ウェットプロセス技術」などについての技術体系をウルトラクリーンと呼ぶ。300mmウェハ生産ラインを現状の200 mmウェハ生産ラインより小さくすることが可能なことと、 トランジスタまわり550℃、配線工程250℃の300mmウェハプロセスに不可欠のトータル低温化生産方式を提唱している。
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