半導体用語集
ガス溶存水洗浄
英語表記：gas disolved water cleaning
機能水洗浄の一種で、純粋に特定のガスを溶存させることによって液の性質を変化させ、洗浄力を向上させる手法をいう。MH2（メガヘルツ）帯域の極超音波洗浄（メガソニック洗浄）と組み合わせて使用されることが多い。ガス溶存の目的は酸化還元電位の制御、メガソニック洗浄時のラジカル発生促進が主となる。水素を溶存させると酸化電源電位が下がり、還元性に富んだ液となるため金属の酸化を抑制した状態に保持される。オゾンの場合はオゾン水となり、強力な酸化性を持つ。酸素や窒素ではメガソニックの照射によってOHラジカルを生成し、微量の有機物除去とパーティクルの除去を中世の液で行うことができる。ガス溶解の方法は、まず純水中から不要なガス成分を中空糸モジュールで脱気し、溶存させたいガスを同様に気液接触により溶解させる。生成した液に微量の薬品を同時に添加してさらに洗浄能力を向上させる試みも行われている。
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