半導体用語集
ティルトステップ
英語表記：multiple tilt angle implantation
イオン注入の際、1枚のウェーハにティルト角を何回か変えながらイオン注入を行うこと。イオン注入中はティルト角は固定され、一定量注入後、次のティルト角における注入が行われる。普通注入中ウェーハは連続回転させる。
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