半導体用語集
プラズマTEOS CVD
英語表記:plasma TEOS CVD
減圧CVDの反応室内に反応ガスとしてTEOSを供給し、電極間に高周波電圧を印加することでプラズマを発生させ、ウエーハ上にSiO₂膜を形成するCVD法。ドーピング材として、B、Pがもちいられることがある。
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