半導体用語集
ペリクル保護膜
英語表記：pellicle fiilm
レチクルにおいて、異物付着からの保護をする有機膜のこと。膜の厚さは1μm程度で、数mmの厚さの枠に張りつけレチクルのパターン面を覆うように装着して使用する。
光リソグラフィ工程においてレチクル上に異物が付着すると、マスク欠陥としてウェハ上のすべてのショットに欠陥が生じることになる。これを避けるためにレチクルのパターンの存在する面に枠を取りつけ、パターン面から数mm程度浮かせた状態でペリクル保護膜を張りつける。ペリクル保護膜上には異物が付着することになるが、これらの異物はパターンの存在する面とは離れているため、小さい異物であればウェハ上では焦点がずれているため結像にほとんど寄与せず、ウェハ上でのパターンに欠陥を生じさせない。ぺリクル上に異物が付着してしまった場合にはブロワーなどで取り除く。
ペリクル保護膜はレチクルのパターン面の下側に張りつけられるのが一般的であり、ペリクル膜にはレチクルパターンを通過した光が照射されることになる。したがって、ペリクル保護膜は投影光学系の一部と見なされるため、ここで位相差や透過率差が生じると光学系の収差を発生させる。膜厚や屈折率が異なると、ペリクル膜中での多重反射の影響から透過率が変化したり、光路長の違いによって位相差を生じたりする。吸光係数が異なると、膜内での吸収の影響から透過率が変化する。よって、露光光に対する透過率が高いことが求められるのはもちろんのこと、膜厚や屈折率、吸光係数の、面内均一性がよいこと、安定性が高いことなどが必要である。
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