半導体用語集
ラジカル洗浄
英語表記：cleaning using radicals
気体中の分子がプラズマ状態（プラズマ洗浄参照）になると、電子、イオン、ラジカル（遊離基）に解離する。ラジカルは、電界、磁界の影響を受けず電気的に中性で、イオンに比べて大量に発生する。プラズマ生成室から生成されたラジカルだけを電界及び磁界が影響しない別の反応室に導き、被洗浄物上に流すと化学的洗浄が行われる。例として、被洗浄物上の表面のイオンダメージ除去、レジスト残渣除去、ポリマー除去等の洗浄が行われる。洗浄除去物は化学反応で揮発性反応生成物となり真空排気される。
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