半導体用語集
レジストレーション
英語表記：registration
電子ビーム直接描画方式では、ウェハプロセスを経て、変形した下地パターンの歪に対応して、ビーム偏向量を三次元空間で補正する技術をレジストレーション技術という。 レジストレーションには、電子光学系の偏向歪補正を用いる。描画パター ンに設けられた複数のチップマークを 検出して、マーク座標をえて、マーク座標の位置から、パターン自体の変形を読み取る。これにより、設計パターン座標(x、y)に対し、補正演算を行って、補正後のパターン座標(xc、yc)をえる。
xc=a0+a1x+a2y+a3xy、
yc=b0+b1x+b2y+b3xy
レジストレーションにおいては、描画面の高さによる偏向量の制御も重要 である。あらかしめ、ビーム偏向量 xyを、描画面の高さ2の関数として、求めておくことにより、マーク検出時に描画面の高さ測定結果から描画バターン座標に補正を行う。
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