半導体用語集
レジスト安定化処理装置
英語表記：resist curmg system
レジスト安定化処理装置とは、先に説明した「レジスト塗布処理装置」、
「レジスト現像処理装置」に引き続き行われるUVべーク処理を行う装置である(図1 )。
＜レジスト安定化処理装置の装置構成>
(1)レジスト耐熱性
現像後のレジストパターンの断面形状が、その後の加熱処理によって、どの程度初期形状を維持できるかを示す指標。より高温まで形状維持できる状態を「耐熱性が高い」、「耐熱性が良い」、「耐熱性がある」と表現する。
(2)UVべーク(レジスト安定化プロセス)ロセス)レジストの耐熱性を高めるために、加熱と遠紫外線照射を行う処理。高温 (100～200℃) 保持された熱盤上に、現像処理後のウェハを載置し、遠紫外光 (200 ～400nm波長)をウェハ前面に一括照射し、レジスト主成分の樹脂の橋架け反応を促す。橋架け反応の進行に応して、加熱温度を徐々に上昇させる処理が、より効果的で処理時間の短縮が図れる。
一般的には、エッチング時の反応熱によるレジストパターンの変形を防止 する目的で用いられる。ノボラック系樹脂を主成分としたレジスト材料に対して、より顕著に耐熱性向上効果が確認されている。
(3)装置構成
処理工程が現像プロセス処理後であ るため、この処理装置はスタンドアロン装置で運用されるのが一般的である (図2)。必要に応じてレジスト塗布現像装置内に搭載される場合もある。
関連製品
「レジスト安定化処理装置」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「レジスト安定化処理装置」に関連する用語が存在しません。
「レジスト安定化処理装置」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
