半導体用語集
レーザドーピング装置
英語表記：laser doping system
ウェーハに紫外領域波長のレーザ光を照射して光化学反応によりドーパントガスを分解すると同時に照射部分を局部的に溶解して、この部分に不純物のドーピングを行う装置。イオン注入法と異なり、欠陥の生成が抑制され、活性化のためのアニール処理が不要となる。レーザとして短波長のエキシマレーザが主に使用される。
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