半導体用語集
中電流 イオン注入装置
英語表記：medium current ion implanter
数KeVから数百KeVのエネルギー領域で、1×1014程度以下の中・低ドーズ量を精度よく高い生産性で注入することを主たる用途としたイオン注入装置。一般的に枚葉処理方式のエンドステーションを持ち、イオンビームをX、Y方向にスキャンする方式。もしくは、ハイブリッドスキャン方式でイオン注入を行う。また、大ティルト角注入、回転注入などを行う機能を持ち、各種のチャネルエンジニアリング注入にも用いられる。
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