半導体用語集
光学式表面粗さ測定
英語表記：optical surface roughness measurement
計測対象物表面の凹凸（粗さ）のうち、空間周波数の高いものを光学的に測定すること。触針の変位を光学的に計測する方式は普通含まず、対象物への光照射を前提とする。反射光のスポット形状、反射方向変化、焦点ずれ、散乱などを測定する方法や、干渉を用いて凹凸を測長する方法がある。光照射の方式としては、照射エリアを小さくし、プローブとして用いる方式と、広域照射を行い、受光側（CCDセンサーなどを用いる）で位置分解する方式とがある。原理上、計測物の光学特性に影響され、均一材質表面の凹凸計測に有効である。半導体プロセスにおいては、ウェーハの平坦性の把握が、リソグラフィ露光時や、CMP工程時に必要であり、フラットネスの評価も粗さ測定の名で行われることがある。一般的にいう粗さより、さらに、空間周波数の高い凹凸の光学的計測には、走査型プローブ顕微鏡の一種で、エバネセント光を利用したものの提案もある。
関連製品
「光学式表面粗さ測定」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「光学式表面粗さ測定」に関連する用語が存在しません。
「光学式表面粗さ測定」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
