半導体用語集
分光エリプソメトリ
英語表記：SE: Spectro Ellipsometry
偏光解析法（エリプソメトリ）の一種である。表面や薄膜の光学的性質および膜厚を高い感度と精度で計測する技術となっている。
偏光解析において，入射光の光源の後，もしくは，反射光の検出器の前に分光器を設置する。通常のエリプソメトリよりパラメータが増え波長の関数として計測できるので，膜の質的変化に関わる屈折率の測定などができる。半導体製造過程における，膜厚と膜質管理・計測などにも使われる。
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