半導体用語集
固相拡散法
英語表記：solid phase diffusion method
固体の不純物源から不純物を拡散させる技術。1987年以来0.1μmMOS デバイスの動作実証実験に多く用いられてきた。 Si02やポリシリコンなどに大量に混入させた不純物を拡散源として、高温でシリコン結晶内に拡散させ、接合を形成する、古くから用いられている技術である。すべて熱平衡状態でプロセスが行われるため、拡散の基本に則った結果がえられる。プロセス自体は非常に単純であるから、プロセスに負担をかけずに徴細デバイスを作るなどの実験には用いられてきた。実用面では特にトレンチへのドーピングで実用化されていた技術。CMOS を形成するためにはp型とn型の拡散が必要であるが、非常に困難である。シリコン結晶上にポリシリコンを堆積した後フォトレジストを用いてイオン注入によってp/nを打ち分け、その後熱拡散させる複雑な提案もある。
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