半導体用語集
大ビーム電流
英語表記：large beam current
イオン注入、プラズマドーピングの際にビーム電流量の差によってでき上がる接合の性能に影響が出る。主に、高密度照射効果。つまり、シリコン表面に時折イオンが飛来してくる状況では、非常に徴細な領域に格子欠陥のカスケードが発生し、短時間のうちに元の状態に戻るが、次々にイオンが飛来する状況では直前のイオン注入による高いエネルギー状態が回復しない内に次のイオンがやってくる。最近、極低エネルギー注入でプラズマドーピングを行ったデバイスの性能が、ビームラインより高いという報告が複数の機関からなされているが、これは、主に極低エネルギー時の注入で両者のビーム電流量に非常に大きな差があるためだろうとされている。単純には100倍くらいの電流密度差が発生している。
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