半導体用語集
擬似欠陥
英語表記：false defect
無欠陥箇所であるにも関わらす、欠陥検査装置により欠陥と誤認される箇所を疑似欠陥と呼ぶ。疑似欠陥が発生原因として、パターンのコーナなどが丸まり、実マスクパターンがマスク設計パターンどおりにできなくなっていることや、パターン寸法の徴細化に伴い検出すべき欠陥寸法が小さくなり、十分なS/N 比の検出信号がえられないことなどがあげられる。近年用いられ始めている光近接効果補正パターンは徴細な凹凸をマスクパターンに形成するため,ますます擬似欠陥を発生しやすい状況を生み出している。一般に、欠陥検査装置の検査感度を上げると擬似欠陥の数も多くなるため、擬似欠陥の数をいかに少なくできるかが欠陥検査装置の高感度化を大きく左右する要因となっている。
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