半導体用語集
洗浄方式
英語表記：cleaning process
はんだ付け工程における洗浄方式には，超音波洗浄，ダイレクトパス，ジェット水流がある。フラックスの種類によって，水系洗浄，準水系洗浄，非水系洗浄に分けられる。
洗浄方式の選択には，材科の選定（フラックス，洗浄液），プロセスの決定，装置の検討が必要である。
従来，洗浄方法として，不燃性，速乾性，優れた洗浄特性から洗浄液にフロンが用いられていた。しかし，1987年に国連環境計画がオゾン層の破壊を防止する目的から，1989年7月1日に規制が始まった。それに伴いフラックス，洗剤メーカーにより，フロンを用いた場合と同等の洗浄性，安全性，コスト，使いやすさを満たすような代替洗浄方式の検討がなされた。エレクトロニクス実装分野における特定フロンや1,1,1－トリクロロエタンなどの代替技術には，低残渣フラックス使用による無洗浄化，水溶性フラックス使用による水洗浄化，代替洗浄剤による洗浄化などがある。
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