半導体用語集
洗浄装置
英語表記：cleaning system
基板表面もしくは裏面にある粒子、金属不純物、有機物などの汚染物質を除去する装置のこと。方式はプラズマやUVオゾンを用いた乾式洗浄と、RCA洗浄や機能水洗浄のように化学的な作用をもつ液体を用いて洗浄を行う湿式洗浄装置とに分類できる。現在の半導体デバイス製造で広く用いられている湿式洗浄装置は、基板を1枚づつ洗浄する枚葉式と、複数の基板を一括して洗浄するバッチ式に大別でき、物理的作用による洗浄効果を得るために、ブラシスクラブやメガソニック洗浄機構を併設することがある。
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