半導体用語集
水系洗浄装置
英語表記：aqueous cleaning equipment
水溶性フラックス除去を目的として，溶剤に水を使用した洗浄装置。洗浄フローは，洗浄，すすぎ，乾燥の3段階になっており，装置構成としては，4槽（洗浄1槽，すすぎ2槽，乾燥1槽）が一般的である。洗浄とすすぎに水を使用しており，それ以外の溶剤はいっさい使用していない。
最近では，環境問題から水のみを使用している水系洗浄に移行している。水系洗浄装置は洗浄装置全体の約半数を占める。
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