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枚葉式自動洗浄装置

PHT株式会社
最終更新日: 2024年08月29日

本装置は、φ150mm(6") ・φ200mm(8")対応の SiCウェーハ枚葉式洗浄装置です。
ウェーハは、25枚入カセットでLD側に作業者がセットします。
洗浄後のウェーハは、ULD側にセットされたクリーンなカセットに収納されます。

本装置は、φ150mm(6") ・φ200mm(8")対応の SiCウェーハ枚葉式洗浄装置です。
ウェーハは、25枚入カセットでLD側に作業者がセットします。
洗浄後のウェーハは、ULD側にセットされたクリーンなカセットに収納されます。
プロセス:LD(水中)→ 両面ブラシスクラブ → 両面ブラシスクラブ → 超音波シャワー洗浄 → スピン乾燥 → ULD(空中)となります。

基本情報

【処理物】
1. SiCウェーハφ150mm・φ200mm ノッチ・オリフラ
  直径:φ150mm±0.2mm・φ200mm±0.2mm
  厚さ:385~600μm
  反り:40μm以下
  接触可能範囲エッジ部及び外周から2mmの範囲
2. カセット
  LD側カセット:SEMI規格品→PFAキャキア(25枚入)
  ULD側カセット:SEMI規格品→PPキャキア(25枚入)
  φ150mm(6")ウェーハ収納ピッチ:4.7625mm
  φ200mm(8")ウェーハ収納ピッチ:6.35mm
【スループット】
タクトタイム:60秒/1枚【φ150mm(6")】
タクトタイム:45秒/1枚【φ200mm(8")】

価格帯 価格相談
納期 納期相談
お問い合わせ

取扱企業

PHT株式会社

業種:産業用機械  所在地:東京都 北区赤羽2丁目 69番2号

半導体搬送システムや半導体洗浄装置などの専門メーカー

PHT株式会社は半導体搬送システム事業、半導体洗浄装置事業を行う企業です。

特徴
PHTは半導体業界の中でウェーハ自動剥離装置(剥離洗浄機)のニッチトップ企業として世界に活躍いたします。

PHTはこれまでシリコンウェーハの搬送やレーザ加工技術を活用して次世代SiC(炭化ケイ素)やGaN(窒化ガリウム)材料をはじめ、化合物半導体向け搬送及び洗浄ソリューション(ロボット・搬送「搬送装置あるいは移載装置、EFEM、SORTER」・自動剥離洗浄装置・洗浄装置)を提案し、特にパワー半導体市場へ積極的にアプローチをしております。当社は、省エネ向け(電気自動車、電力制御)の半導体製造装置へ総合ソリューションの提供体制を創出しています。

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