半導体用語集
縮小倍率
英語表記：reduction ratio
縮小型投影露光装置では、半導体回路の原版であるマスクを縮小して半導体基板に焼きつける。この時、マスクからウェハへの縮小率を縮小倍率という。
ステッパと呼ばれる一括投影露光装置では4:1ないし5:1が主流である。解像力を落とし処理能力を優先した高速ステッパでは2:1ないし2.5:1の倍率も使われる。スキャン型投影露光装置では、露光領域が広いため4:1が主流である。
縮小倍率を大きくするとマスク上のパターンサイズが大きくなるので、マスク上のパターン精度が緩和される。しかしながら、近年は露光領域を大きく取るために縮小倍率は小さく設定されるが、この場合はマスク上のパターン精度がウェハ上のパターン寸法、位置精度に大きく影響する。
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