半導体用語集
誘導結合プラズマエッチング装置
英語表記：inductively coupled plasma etching system
アンテナにより発生される高周波誘導磁場によりプラズマ中に誘導電界を生成し、これによる電子の加速によって生成される高密度プラズマを用いたプラズマエッチング装置。誘導結合アンテナの形状には板（らせん）状コイルと平板状コイルがある。磁場生成用の電磁コイルが不要であり、装置がコンパクトになる。
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