半導体用語集
超解像露光技術
英語表記：super-resolution method, resolution enhancement technology
超解像露光技術は、フォトリソグラフィに用いている技術である。通常、回路パターンが形成されているマスクを透過した光は、0次、一次などの光の回折光が発生する。この光の回折光のバランスを調整することにより解像度を向上させる技術である。超解像露光法は主に三つに分類され、斜入射照明法、位相シフト露光法、瞳フィルタ法があり、またそれぞれを組み合わせる方法も多くなってきている。名称は、RET (Resolution Enhancement Technology) と呼ばれることもある。
斜入射照明は、照明系絞りの形状を変え、マスクへの照射光を斜めから照射することにより0次、一次などの回折光による2光束干渉により光学像形成をする。斜入射照明の種類は、主に変形照明と輪帯照明法がある。
位相シフト露光法は、フォトリソグラフィに使用されるマスクにおいて、一部の透過光の位相（光路長）を変化させ、隣接する光同士の干渉により光学像を形成する方法である。位相シフト露光法の種類は、大きく分類すると空間周波数変調法とエッジ強調型がある。空間周波数変調法には、レベンソン法や多段型位相シフト露光法がある。エッジ強調型には、ハーフトーン型、遮光強調型（シフタ遮光型）、補助シフタ型などの位相シフト露光法がある。
瞳フィルタ法は、露光装置のレンズである瞳面に振幅（位相）、透過率を調整する空間フィルタを存在させパターン像を改良する方法である。主に位相フィルタ、透過率フィルタ、非対称フィルタなどが用いられている。
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