半導体用語集
電子ビームセルマスク
英語表記：electron beam cell mask
セルプロジェクション方式の電子ビームリソグラフィで使用されるマスク。電子ビームを成形するもので、メモリLSIのセルなど、繰り返し性の高いパターンの一部をエッチングで形成しておき、これに電子ビームを繰り返し照射することによって、ウェーハへの露光が行われる。メモリーセルを投影することから、セルプロジェクション方式と呼ばれる。
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