半導体用語集
面内均一性 wiw
英語表記：within wafer
ポリッシュ量のウェーハ面内の均一性をいう。一般的にウェーハ上のｎ個の測定点のポリッシュ量から以下の値で評価される。
1）最大値、最小値による場合
均一性＝
2)最大値、最小値、平均値による場合
均一性＝
3）偏差による場合
均一性＝
平均値
偏差
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