半導体用語集
面積密度法
英語表記：pattern area density map method
照射量補正の逐次計算法の一種で、代表図形法と同様に、後方散乱径と同程度の大きさの小領域にパターンを分割して、領域の面積に占めるパターンの存在する面積住を計算し、後方散乱に起因する蓄積エネルギーU(x)=ɑ×ηを求める。最適露光量は、領域ごとに求めた面積密度から決定される。 パターンが領域内で分割される位置によって、補正計算の結果が大きく変化する問題が生じるが、求めたパターン面積密度を隣接する領域間で平滑化することにより、この間題を解決している。大きな特徴は、電子ビーム露光装置自体に、近接効果補正専用のハードウェアを組み込み、パターンの面積密度の計算および近接効果補正を行う点である。この方法では、空描画によって、小領域内のパターン数をカウントするため、高速処理が可能となる他、データ処理中に近接効果補正を行う必要がない。
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