半導体用語集
Crマスク
英語表記：Cr on glass mask
石英基板上に光の遮蔽膜としてクロムの薄膜を成膜したマスクブランクスをCr (クロム) マスク (またはハードマスク) という。Cr膜にパターンが形成され完成したマスクをCrマスクということもある。石英基板上のCr膜は、下層に厚さはおよそ70 nmのクロム層、上層に厚さはおよそ30nmの酸化クロム層の2層構造をなす。酸化クロム層は迷光の原因となるクロムパターンからの反射を低減させる反射防止膜としての役割を果たしている。マスク基板は、従来の5インチ角で0.09インチ厚から、6インチ角で0.25インチ厚へと移り変わっており、さらに、9インチ角の大きさの基板も検討され始めている。Cr膜の加工は、クロム膜上に形成されたレジストパターンを工ッチングマスクとして、ウェット工ッチング で行われてきたが、最近では反応性イオンエッチング(RIE)によるドライ工ッチングが主流になりつつある。
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