半導体用語集
DHF洗浄
英語表記：dolute hydrogen fluoride cleaning
希釈HF（HF/H2O）処理を指し、Si表面の自然酸化膜を除去するための溶液処理の一種である。金属不純物除去にも利用される。具体的には、硫酸・過酸化水素洗浄、アンモニア・過酸化水素洗浄、及び塩酸・過酸化水素洗浄後に用いられることが多い。通常、この処理は室温付近で行い、HF/H2Oの組成比は、1/1000～1/100（体積比）の範囲が一般的である。
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