半導体用語集
ECRエッチング装置
英語表記：Electron Cyclotron Resonance Plasma Etcher
低圧力中においても高密度なプラズマを作る為に工夫をこらし、高アスペクト比パターン用のエッチング装置がECRである。プラズマ発生室とエッチング室が分かれている。プラズマ発生室中のガスに静電磁場を架け、そこにマイクロ波を入射すると電子サイクロトロン共鳴現象が起こり、マイクロ波のエネルギーが効率よく吸収され高密度なプラズマが出来る。この高密度プラズマを低圧力エッチング室に引出し、異方性の強い高効率な反応性イオンエッチングを行う。RF電源が独立しているため、セルフバイアスをコントロールでき、エッチング速度を落とさずに低ダメージエッチングも可能である。
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