半導体用語集
ECR エッチング装置
英語表記：electron cyclotron resonance etching system
ECR(電子サイクロトロン共鳴)を利用してウエーハをエッチングする有磁場マイクロ波エッチング装置。マグネトロンから発生されたマイクロ波は、オートチューナで整合され、導波管を通り空洞共振部で伝播モードが選択励起されて、エッチング室へと導入される。マイクロ波によるエネルギーとソレノイドコイルにより発生した磁場との相乗効果で電子サイクロトロン共鳴（ECR）を生じ、プロセスガスをプラズマ化し高密度プラズマを生成する。ウエーハは電極上に設置され、ウエーハ裏面には、熱伝達効率を高めるためにHeガスが充填される。電極には高周波バイアス電源より、高周波を印加しており、プラズマ中のイオンをウェーハに対し、垂直に引き込み、且つ入射エネルギーを制御し、加工精度の良い異方性エッチングが可能となる。
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